Theoretical adjustment of metalorganic chemical vapor deposition process parameters for high-quality gallium nitride epitaxial films
['Dong Wang', 'Junyan Lao', 'Wenjia Xiao', 'Hengxu Qu', 'Jie Wang', 'Gang Wang', 'Jian Li']
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Physics of Fluids
/ Vol. 35
/ No. 3
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