Powered by Engineering Brain, Japan | PKVとは

プラズマCVD法で形成した窒素ドープDLC膜の硬さおよび残留応力に及ぼす窒素含有率の影響

['人見 元規', '日比野 友哉', '中村 守正', '松岡 敬']   /   材料 / Vol. 74 / No. 7
0.0 / 5
0 件のレビュー
レビューを書く
新着順 高評価順 低評価順
評価の内訳
5
0%
4
0%
3
0%
2
0%
1
0%
レビューを書く

まだレビューは投稿されていません。あなたが最初のレビューを書きませんか？

レビューを書く