Morphological Stability Limits of Ag–Cu–Al Nanocrystalline Thin Films Prepared via Reactive Sputtering in Ar–O2 Mixed Gas
['Yoshiyuki Ueshima', 'Masakatsu Hasegawa', 'Tetsuji Hirato']
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Metallurgical and Materials Transactions A
/ Vol. 55
/ No. 9
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