分子動力学法を用いた半導体微細パターン材のアモルファスシリコン層における酸化膜形成解析と真性応力評価
['田中 展', '井上 優', '高本 聡', '波田野 明日可', '泉 聡志']
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材料
/ Vol. 65
/ No. 2
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