斜入射小角X線散乱法によるポリスチレン-b-部分四級化ポリ(2-ビニルピリジン)薄膜の相分離構造の配向化挙動の評価
['山本 勝宏', '岡本 貴史', '斎藤 樹']
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材料
/ Vol. 66
/ No. 1
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